---

Das renommierte Standardwerk bietet mit der Kommentierung des Patentgesetzes, des Patentkostengesetzes, des Gebrauchsmustergesetzes, des Halbleiterschutzgesetzes, des Arbeitnehmererfindungsgesetzes sowie des Gesetzes über Internationale Patentübereinkommen die umfassendste Darstellung des gesamten relevanten Patentrechts. Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur hierzu sind vollständig und aktuell erfasst. Die Neuauflage berücksichtigt sämtliche Änderungen kommentierter Gesetze bis Juni 2016. Die Autoren sind langjährig mit dem Patentrecht befasste Richter aus der Verletzungsgerichtsbarkeit sowie ein erfahrener Praktiker aus dem Deutschen Patent- und Markenamt.

---

"Alles in Allem kann somit festgestellt werden, dass die 8. Aoflage im Gegensatz zo der Rezension: Examens Vorauflage sich vor allem in puneto Layoot und visueller Darstellung der Repetitorium Strafprozessreeht Kommentiemng als solche wesentlich verbessert hat. In dieser Hinsicht stellt der Rezension: Sozialrecht Bosse´sche Kommentar nach Auffassung des Verfassers das aktuelle bcste Rezension: Beck´scher Nachschlagewcrk im Bereich des Patentrechts dar. Aus inhaltlicher Sicht vermag das Vergabererhtsknmmentar, Werk durchweg einen hohen Standard zu gewährleisten, was neben der fachlichen Kompetenz der einzelnen Autoren mitunter auch an der umfassenden Auswertung der einschlägigen Patentrechtsliteratur und vor allem der einschlägigen Rechtsprechung liegt. Daher ist die 8. Auflage für jeden Praktiker unerlässlich, um einen guten Zugriff auf die mitunter schwierige Materie des Patentrechts zu bekommen."
Pascal Slotwinski in:

---

This seminal work provides an up-to-date and comprehensive presentation of the full scope of patent law, including commentaries on patent law, the patent fees law, the employee invention act, and the act on international patent conventions.

---

Alfred Keukenschrijver,München; Rainer Engels, Richter amBPatGet al.

---